標簽印記 VOID防偽標簽的類別與技術要求

　　導讀：設計、制作防偽技術產品的技術應具有安全保密性。除此之外還應考慮經濟成本適應性，即在滿足防偽技術要求同時應盡可能降低使用成本。
　　
　　一、VOID防偽標簽的類別：
　　
　　1.全息防偽商標，又名激光防偽商標，或叫鐳射防偽商標。
　　
　　2.印刷防偽商標、印刷防偽證件。
　　
　　3.雙卡防偽商標；分莫爾條紋雙卡、核徑跡雙卡、偏振光學雙卡、隨機加密隱藏圖文雙卡等四種雙卡防偽商標。
　　
　　4.圖形輸出激光防偽商標；利用激光束在標的物表面形成圖文的防偽標記。
　　
　　5.核微孔防偽商標，即核徑跡防偽。對由重離子發生器或核反應堆（國家控制設備）成像法輻照有機薄膜，形成電離損傷。用強堿或酸對已形成的徑跡蝕刻，使其成為微孔。由微孔構成圖文。其防偽特征是：在可見光下，由于微孔衍射與散射作用，人眼觀察到的視覺效果為白色圖文。若滴水其上，水滲入微孔，圖文消失。若用有色液體涂抹，有色液體滲入微孔，擦去表面有色液體，呈現有色圖文。
　　
　　6.圖文揭露防偽商標；
　　
　　7.隱形圖文防偽商標。該防偽商標利用具有回歸反射特性的材料制成，有閃角圖像型、多維閃角型、反光水印型等。在貴州茅臺酒防偽方案競標中我國廠商使用國產隱形圖文防偽標識打敗了實力雄厚的美國3M公司，一舉中標。
　　
　　8.磁性防偽商標。該防偽商標利用磁性油墨以印刷方式制成。例如，將磁粉制成磁性油墨以PS膠混版、絲網等印刷方式將其信息特性（如碼條、碼寬、碼距）和磁特性（剩磁比例、矯頑力比例）進行混合編碼。用隱含磁碼鑒別儀識別（以沖擊法傳感作快速磁性測量，準確測試編碼材料的各種特征，并完成邏緝譯碼）。
　　
　　9.標記分布防偽商標。該防偽商標利用呈三維立體狀彩色纖維分布特性制成，稱為紋理分布防偽標識。利用彩色反光顆粒及白色凸起微泡分布特性所制成的防偽標識稱為顆粒分布防偽商標。這種標識的原創屬于我國，標識*性和難于仿造性均佳。
　　
　　10.覆蓋層防偽商標。該防偽商標利用覆蓋層覆蓋有*對應的數碼或圖文信息。該標識分刮開式和揭啟式兩種。覆蓋層去掉，應不能再次使用。zui常見的為電碼刮開式和電碼揭開式防偽商標；
　　
　　11.原光光雕防偽商標。該防偽商標利用高分辨率的光雕技術制版，在薄膜上形成光柵間距小于等于0.4μm的全息圖，在白光斜射下零級衍射即為反射方向，形成了薄膜等傾干涉的圖文。我國采用了這種上*級高科技技術，沿自身平面轉動90度，圖案《長城》顏色發生變化。
　　
　　12.紫外線熒光防偽商標。在紫外光照射下發出可見光的特種油墨，稱為紫外熒光油墨。廣泛應用于電子物流化裝煙酒禮盒包裝等
　　
　　二、VOID防偽標簽的技術要求：
　　
　　防偽商標是防偽技術產品之一，主要技術要求如下：
　　
　　1.身份*性：防偽技術產品防偽識別特征的*性和不可轉移性。例如數碼防偽，做到一件商品的防偽商標一個身份碼，每一個防偽商標只能一次性使用，不能轉移使用。
　　
　　2.穩定期：在正常使用條件下，防偽技術產品的防偽識別特征可持續保持的zui短時間。例如熒光油墨和溫變油墨，有衰減期。
　　
　　3.安全期：在正常使用條件下，防偽技術產品防偽識別特征被成功仿制的zui短時間。這是客戶zui關心的，應由廠家提出承諾期。
　　
　　4.防偽力度：識別真偽、防止假冒偽造功能的持久性與可靠程度。防偽力度由防偽識別特征的數量、防偽技術獨占性的數量、仿制難度和仿制成本大小四個要素構成。
　　
　　5.使用適應性：防偽技術產品的防偽識別特征能與標的物或服務對象使用要求相適應的能力。
　　
　　6.識別性能：防偽技術產品的防偽識別特征能通過感官或機器（儀器）在要求的識別時間內正確識別。一線識別強調防偽識別特征的大眾共知性，通過感官即能識別；二線識別強調通過簡單儀器（如放大鏡、激光筆、紫外熒光鑒別器等）即能識別；三線識別強調通過儀器（如DNA鑒定）由專家識別，作為司法判定的依據。二線識別與三線識別強調防偽識別特征的隱含性。
　　
　　7.使用環境要求：防偽技術產品的防偽性能應能滿足標的物的正常使用環境要求。
　　
　　8.技術安全保密性：設計、制作防偽技術產品的技術應具有安全保密性。除此之外還應考慮經濟成本適應性，即在滿足防偽技術要求同時應盡可能降低使用成本。